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納米級二氧化硅拋光液
摘要特點(diǎn):

納米級二氧化硅拋光液主要由高純度的二氧化硅納米顆粒組成,具有極小的粒徑和均勻的粒度分布。這些納米顆粒能夠有效去除材料表面的微小不平整,達(dá)到高精度拋光的效果。

  • 產(chǎn)品介紹
  • 技術(shù)參數(shù)

一、產(chǎn)品概述:

       納米級二氧化硅拋光液主要由高純度的二氧化硅納米顆粒組成,具有極小的粒徑和均勻的粒度分布。這些納米顆粒能夠有效去除材料表面的微小不平整,達(dá)到高精度拋光的效果。在光學(xué)、電子等領(lǐng)域廣泛應(yīng)用的研磨和拋光材料。


二、產(chǎn)品特性:

       1、粒徑?。杭{米級二氧化硅拋光液中的顆粒粒徑通常在幾十納米至幾百納米之間,這使得拋光液具有極高的表面平整度和拋光效率。

       2、拋光效果好:由于納米顆粒的尺寸效應(yīng),納米級二氧化硅拋光液能夠深入材料表面微觀結(jié)構(gòu),實(shí)現(xiàn)更精細(xì)的拋光效果。

       3、雜質(zhì)含量低:高純度的二氧化硅納米顆粒保證了拋光液的純凈度,減少了拋光過程中引入雜質(zhì)的可能性。

       4、穩(wěn)定性好:納米級二氧化硅拋光液具有良好的穩(wěn)定性,能夠在長時(shí)間存儲(chǔ)和運(yùn)輸過程中保持其性能的穩(wěn)定。


三、應(yīng)用領(lǐng)域:

       1、光學(xué)領(lǐng)域:用于光學(xué)鏡片、鏡頭、濾光片等光學(xué)元件的拋光,提高光學(xué)元件的表面光潔度和成像質(zhì)量。

       2、電子領(lǐng)域:用于半導(dǎo)體芯片、集成電路等電子元件的拋光,去除表面缺陷,提高電子元件的性能和可靠性。

       3、金屬加工領(lǐng)域:用于金屬表面拋光,去除金屬表面的毛刺、銹跡等,提高金屬表面的光潔度和耐腐蝕性。


9.納米級二氧化硅拋光液.jpg

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